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저인 무전해니켈 도금에 대한 착화제 첨가의 효과
Effects of Complexing Agent on Low Phosphorus Electroless Nickel Plating

등록 2020.10.28 ⋅ 59회 인용

출처 Plating and Finishing, 40권 10호 2018년, 중국어 5 쪽

분류 연구

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络合剂对低磷化学镀镍的影响

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.01.31
저인 무전해니켈도금에 대한 구연산, 아세트산, 석신산, 말릭산, 젖산 및 프로피온산의 인함량, 피막 다공성 및 경도영향을 도금속도의 지표로 연구 하였다. 착화제로 젖산과 프로피온산을 단독으로 사용하면 저인 도금을 얻을 수 있음을 보여 주었다. 다른 착화제에서 얻은 피막의 인 함량은 5 % 보다 높았고 ...
  • 착이온과 배위결합 착이온 어떤 금속원자나 이온에 따른 분자나 이온이 결합하여 생긴 복잡한 구조의 새로운 이온 예) Cu2+ + 2NH3 + 2H2O → Cu(OH)2 ↓ + 2NH4+ Cu(OH)2 + 4...
  • COPPER GLEAMTM CuPulse 프로세스는 PPR 전류를 사용하여 인쇄회로기판의 구리도금을 위해 설계되었습니다. CuPulse 공정으로 최적화된 PPR 펄스의 조합은 기존 DC 전기...
  • 도금용액에 특정 유기물질이 첨가된 다양한 금속 및 합금도금을 위한 전기도금 공정을 설명하였다. 이를 통해 매끄러운 광택마감, 수지상 성장방지 및 넓은 영역에 걸쳐 일...
  • 무전해 구리도금 활성화 처리법으로 2종류의 금속 수산화물 콜로이드의 협동효과를 이용한 활성화 처리법의 개발과, 이 활성화 처리법에 관한 연구결고 보고
  • 순철단결정의(001)면 및 (110)면상에 염산성 3% 염화금산수용액을 이용하여 금을 치환석출하여 만든 파형결정 및 침형결정의 치환금막에 관한 연구