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포토에칭-이론과 기술동향
Photo Etching - Theory and its technical trend

등록 : 2010.01.14 ⋅ 42회 인용

출처 : 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 8 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

フォトエッチング-理論と技術動向

자료 :

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
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  • 각종 표면처리에 관한 기초 교과서
  • In situ XDR 측정용의 전용 셀을 새로히 고안하여, 구리의 무전해 석출 과정의 경시 변화를 박막 XRD로 측정하는 방법을 검토하고, 무전해 석출과정에 있어서 첨가제 효과에...
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