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포토에칭-이론과 기술동향
Photo Etching - Theory and its technical trend

등록 : 2010.01.14 ⋅ 47회 인용

출처 : 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 8 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

フォトエッチング-理論と技術動向

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
  • 비시안욕의 유연성, 윤할성, 전기전도성을 가진 주석과 같은 이유로 사용되는 구리와의 합금을 만들어, 기능성을 향상하는 동시에, 고내식성, 고경도등의 기능성을 가지며, ...
  • 산성 금 Au 도금욕중에 고전류밀도로 만든 펄스도금 피막의 특성에 관하여 표면형태와 구조 및 내식성 등을 검토
  • 합금이 철금속에 보호피막을 제공하기 때문에 주석과 카드뮴의 합금도금에 대한 관심이 발전했다. 철과 강판의 합금도금은 단일 금속보다 내식성이 더 높은 것으로 나타났다...
  • 트리옥산 ㆍ Trioxan CAS No 110-88-3 C3H6O3 = 90.08 g/mol 융점 63~64 ℃ 비점 114.25 ℃ 물에 21.1 g/100 ml 용해 [포름알데히드]의 환상 3량체 비교적 안정화되어 224 ℃ ...
  • 무전해 니켈도금액 분석 ^ Eletroless NIckel Plating Bath Analysis 니켈 도금액 5 ㎖ 를 정확히 취하고 물 50 ㎖ 를 가한다. Conc. NH4OH 10 ㎖ 가한다. MX 지시약을 소량...