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포토에칭-이론과 기술동향
Photo Etching - Theory and its technical trend

등 록 2010.01.14 ⋅ 46회 인용

출 처 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 8 쪽

분 류 해설

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저 자

기 타 フォトエッチング-理論と技術動向

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
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  • 항공 우주 기업들은 항공 우주 NESHAP 가 발행되기 훨씬 전에 대기오염 제어 시스템없이 규제 요건을 충족하는 피막을 평가하기 위해 자원을 투입하였다.
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