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포토에칭-이론과 기술동향
Photo Etching - Theory and its technical trend

등록 2010.01.14 ⋅ 49회 인용

출처 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 8 쪽

분류 해설

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フォトエッチング-理論と技術動向

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
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  • 도금을하는 목적은 장식, 방식 및 금속 표면의 물리적 특성의 개선 등이 있지만 그 중에서도 소지 금속의 부식 방지가 매우 많다. 이 경우 도금 금속은 소지금속에 비해 전...
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  • 서브 트랙티브법에 의한 프린트배선판 제법에 있어서 에칭 공정은 극히 중요하다. 에칭 기술의 변천과 미세회로 형성기술의 현황에 관하여 설명