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포토에칭-이론과 기술동향
Photo Etching - Theory and its technical trend

등록 2010.01.14 ⋅ 62회 인용

출처 실무표면기술, 35권 11호 1988년, 일어 8 쪽

분류 해설

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フォトエッチング-理論と技術動向

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.10
습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
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  • 순 알미늄 시트를 황산법으로 투명한 양극산화피막을 만들려고 합니다. 양극산화와 질산 스마트 처리 제거전에 알카리 에칭을 하는데 유백색 무광택 표면이 됩니다. 적당한 ...
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