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구리의 무전해 석출의 착화 첨가제로 테트라 아자 Tetra aza 배위자 시스템
Tetra aza ligand systems as complexing agents for electroless deposition of copper

등록 2008.08.22 ⋅ 42회 인용

출처 미국특허, 1992-5102456, 영어 7 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.05.30
무전해구리 도금욕은 일련의 4자리 질소 리간드를 사용한다. 도금욕의 구성요소는 욕조의 광범위한 재 최적화 없이 대체될수 있다. Cu- tetra -aza 리간드 욕으로 pH 7~12 범위에서 작동한다. 다양한 완충액, 환원제를 사용하는 안정한 도금욕.
  • 금도금 피막의 개량에 관점을 주어, 공업적으로 많이 이용되는 경질금 (Au-Ni) 매트릭스중에 Al2O3 입자를 분산공석하여 Au-Ni-Al2O3 분산도금을 하고, 공석조건의 영향, 계...
  • 저온과 저 pH에서 우수한 도금성을 나타내는 DMAB을 환원제로 Ni-W-B의 삼원계 무전해 도금피막을 만들고, 황산니켈, 구연산소다, 텅스텐산소다의 농도를 변화시켜 이들 성...
  • 3가크롬 염과 유기착물을 포함하는 용액에서 크롬을 도금하려는 시도가 알려져 있다. 본 발명은 포메이트 또는 아세테이트 및 브로마이드와 함께 3가크롬을 함유하는 크롬 ...
  • • Excellent for barrel plating with high temperature stability • Can be operated with air or cathode movement • Stable over a wide metal ion concentration and te...
  • 화학도금 용액 및 공정, 특히 안정화된 화학도금용액 및 이러한 용액을 사용한 화학도금 공정에 관한 것이다.