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공업계에 있어서 에칭 기술의 조망
Recent development in etching technology
자료
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분류
에칭액 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
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음이온이 음극표면의 조건과 황산전해질 내 아연의 전착 역학에 미치는 영향을 조사하였다.
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정전류 펄스전해법에 의한 주석/니켈 Sn/Ni 다층막제제용 도금욕조성과 전해조건및 제작된 다층막의 구조에 관한 검토
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카복실산계의 착화제와 완충제를 첨가한 저속교반조건의 Cr(iii) 도금욕을 사용하여 Cr 도금의 전류효율, 전착속도및 도금층 조직에 미치는 첨가제 및 전류밀도의 영향을 연...
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전기니켈도금의 기능, 도금욕의 종류, 기본욕 조성과 첨가제의 역할및 도금작업조건에 관하여 설명