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공업계에 있어서 에칭 기술의 조망
Recent development in etching technology

등록 : 2011.10.14 ⋅ 99회 인용

출처 : 실무표면기술, 26권 10호 1979년, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

工業界におけるエッチング技術の概観

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
  • 메탄설폰산 주석과 전해질 및 전착물의 성능 특성. 욕 조성, 온도 및 첨가제의 영향에 대한 연구를 요약하였다. 단순한 산성 황산염과 메탄설폰산염 전해질에서 복잡한 혼합...
  • 천연색 (colar) 합금 도금은 텅스텐, 주석 및 소량의 니켈을 3원 합금으로서 공석 시킨 것이다. 이러한 3원 합금은 약자성의 성질을 나타냄으로서 인체에 대한 알레르기 반...
  • 소취, 항균, 살균섬유의 현항과 표면처리기술의 적용에 관하여 설명
  • 대표적인 산화물 반도체인 산화아연(ZnO)와 아산화구리(CuO2) 의 결정형태제어에 관하여, 수용액 전해석출법 (2극식 정전류전해) 를 설명하였다.
  • 금속 이온, 상기 금속이온에 대한 착화제, 환원제 역할을 하는 하이포 포스파이트, 표면 활성제 및 물에 불용성 복합재료를 포함하는 무전해 복합도금 용액 (상기 표면활성...