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Gyoji Suzuki 1건
공업계에 있어서 에칭 기술의 조망
Recent development in etching technology
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분류
에칭액 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
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첨가제가 구리표면에 미치는 영향을 알아보기 위해 정전압 실험을 사용하여, 레벨러로 사용되는 glue 와 결정립 미세화로 사용되는 티오우레아 thiourea 를 첨가하여 구리표...
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초등각 도금을 통해 구리를 서브미크론 피처에 도금할수 있는 유망한 전기적특성과 기능은 구리전기도금 기술을 반도체 금속화 공정의 주류로 가져 왔다. 그러나 비아 ...
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과거로부터 현재까지의 프린트배선판의 기술추이와 금후의 동향, 표면기술과의 관계를 중심으로 설명
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합성한 N-페닐옥살산 디히드라진과 옥살산 N- 페닐 히드라지드 N- 페닐 티오세미카바지드에 의한 1 M HNO3 에 구리 부식억제의 연구에 중점을 두었다.
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PC에 대한 금속도금의 밀착 강도를 연구했으며, 밀착력을 향상시키기 위해 표면을 화학 약품 또는 DBD (유전체 장벽 방전) 플라즈마로 처리했다. 표면 거칠기, 접촉각, 도금...