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고비저항 무전해 NiP 피막의 열안정성
Thermal stability of high resistivity NiP thin film resistor formed by means of a electroless deposition

등록 2010.01.28 ⋅ 48회 인용

출처 표면기술, 48권 4호 1997년, 영어 2 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.26
P 함량이 17at % 이상인 무전해 NiP 피막은 비정질상태로 인해 박막저항기로 사용되는 것으로 잘 알려져 있다. 그러나 약 275 ℃ 에서 결정 상태가 비정질에서 결정으로 변하기 때문에 더 높은 열 조건을 위한 박막저항기에는 적용할수 없다. 이러한 상황에서 열변화에 대해 보다 열적으로 안정된 피막을 위해 NiWP, NiMoP 및...
  • 최신의 반도체 배선재료는 저저항으로 고주파특성이 우수하기 때문에 알루미늄 대신 구리가 사용되고 있다. 부미크론 치수법의 트렌치와 비아에 매립용으로, 첨가제를 활용...
  • 이 시험방법은 시료를 적당한 방법으로 해리 (解離) 시켜 중성원자로 증기화하여 생긴 바닥상태 (Ground State) 의 원자가 이 원자 증기층을 투과하는 특유 파장의 빛을 흡...
  • 차아인산소다를 환원제로한 무전해 니켈도금 방법의 그 특성, 처리법, 최근의 응용예 등에 관하여 설명
  • 인산염-망간, 탄닌산 및 바나듐 전환피막은 무전해 니켈-인 Ni-P 피막과 AZ91D 마그네슘 합금 소재사이의 효과적인 전처리층으로 제안되어 전통적인 크롬산염과 불산 HF 전...
  • BEH
    BEH ^ 2-butyne-1,4-diol with epichlorohydrin Reaction products of 2-butyne-1,4-diol with epichlorohydrin CAS : 68876-96-0 성상 : 황색 점성의 액상 ㏗ 7~8 (10 % 수...