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저인 무전해니켈 도금욕의 착화제 최적화 첨가의 연구
Study of Optimized Complexing Agent for Low-Phosphorus Electroless Nickel Plating Bath

등록 : 2020.11.11 ⋅ 35회 인용

출처 : Electrochemical Society, 152권 10호 2005년, 영어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.11
무전해도금 니켈에서 니켈과 인이 결합하는 두가지 메커니즘을 X선형광 분광기, XRF 및 순환 전압전류법 CV 를 사용하여 연구하였다. 도금속도 및 도금조성에 대한 단일 및 이중 착화제 효과에 대한 XRF 및 CV 데이터 결과는 니켈 킬레이트가 인 생성, 즉 니켈과 인 통합에 대한 인터페이스 복합 이종 촉매 메커니즘을 촉매 ...
  • 가용성 주석염, 가용성 아연염 및 우레일렌 4차 암모늄 중합체, 이미노우레일렌 4차 암모늄으로부터 선택된 4차 암모늄 중합체를 포함하는 주석-아연 합금의 전착용 도금욕...
  • 비시안계 알카리 아연-니켈 합금도금으로 우수한 연성과 은은한 광택도금이 가능합니다. 니켈과 합금도금으로 내식성이 우수하며 도금후 크로메이트로 내식성이 우...
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  • 팔라듐 도금 · Palladium Plating 백금족 원소인 팔라듐은 도금액 중에서 활성이 매우 강하며, 욕 성분변화와 불순물에 민감하며, 수소흡장, 유기물 흡착성 등에 대한 기술...
  • 붕불화물ㅊ이온을 상온에 분해하여 마그네슘이온의 첨가에 따라, 불소를 강화된 폐수기준 이하로 제거하는 방법을 검토