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저농도의 구리 및 망간을 이용한 아연 인산염 처리 방법
NA

등록 : 2008.08.19 ⋅ 44회 인용

출처 : 한국특허, 1999-0082154, 한글 6 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.19
본 발명은 강, 아연도금된 강 또는 아연 도금된 합금강 및/또는 알루미늄의 인산염처리 방법에 관한 것으로서, 상기에서는 금속 표면을 3초 ~ 8 분의 기간동안 분사 또는 함침에 의해 하기를 함유하는 것을 특징으로 하는 아연-함유 인산염처리 용액에 접촉하게 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  • 납땜 조인트의 납 Pb, 특히 반도체 (SC) 부품 핀마무리에 납에 초점을 맞추고 적절한 대체품을 찾는데 직면한 중대한 과제에 중점을 두었다.
  • 이 작업은 철분말의 무전해니켈 도금의 기술적 타당성을 보여주었다. 도금된 분말은 높은수준의 균질성을 나타내며 소결된 콤팩트는 우수한 기계적 특성을 가지고 있다. 분...
  • 항공 우주 기업들은 항공 우주 NESHAP 가 발행되기 훨씬 전에 대기오염 제어 시스템없이 규제 요건을 충족하는 피막을 평가하기 위해 자원을 투입하였다.
  • 전세계 가전제품, 전자, 자동차, 항공 우주 산업, 소비자 또는 비즈니스 장비, 의료보험에 사용되는 부품 및 어셈블리에서 신뢰할수 있는 마감을 생산하는데 필수적인 일관...
  • 최근 코팅, 페인팅 및 세척 기술의 발전으로 표면 준비 및 세척 요구 사항이 새로운 한계로 밀려났다. 대부분의 사람들은 표면이 깨끗해야 한다는 것을 알고 있지만, 불행히...