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수화산화물 피막으로 피복된 알루미늄의 양극산화 3. 복합산화물 피막중의 보이드 분포에 대한 양극산화 온도의 영향
Anodizing of aluminum coverd with hydroxide. III effect of anodizing temperature on the void distribution in the composite oxxide film
등록
:
2008.09.03
⋅ 51회 인용
출처
:
표면기술
, 40권 4호 1989년, 일어 8 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Hideaki TAKAHASHI
1)
Yasutoshi UMEHARA
2)
Ryusaburo FURUICHI
3)
Masaichi NAGAYAMA
4)
기타
:
자료
:
분류 :
복합산화물
⋅
양극산화
⋅
목록
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Innotive 6520 무전해니켈도금
알루미늄 표면처리제
자료요약
카테고리 :
양극산화
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.06
여러종류의 온도에서 생성된 복합 산화물 피막중의 보이드의 분포도와 기구에 관한 설명
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