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인산염피막의 형성 - 반응속도론적 취급을 중심으로

등록 2010.01.04 ⋅ 46회 인용

출처 금속표면기술, 20권 5호 1969년, 일어 4 쪽

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기타

リン酸塩皮膜の形成 - 反応速度論的取扱いを中心として-

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자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.09
인산염피막화성이 전기화학적과정을 취함을 나타내며, 반응은 캐소드부와 그 근접에사 일어나는 도보 화학반응도 있다.
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  • pH 약 12 이상의 수산화물 용액으로, 내부에 니켈 또는 코발트 화합물 및 비시안화물에 소재을 침지하는 단계를 포함하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금소재에 니켈피막의 전...
  • 메탄설폰산구리 무전해도금욕 ^ Electroless Copper Methansulfonate Baths 도금욕 조성 |1| 12.027 g/L Cu methane sulphonate 20 g/L EDTA 10 g/L p-Formaldehyde 첨가제 ...
  • 6가크롬 도금은 내마모성과 내식성이 뛰어난 단단하고 내구성있는 도금을 만들기 위해 수년동안 사용되어 왔다. 그러나 6가크롬 욕은 욕의 독성 특성, 환경에 대한 영향 및 ...
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