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검색글 화학연마 30건
알루미늄 광택 표면처리에 사용되는 인산의 회수
Recovery of Phosphoric acid used in the Bright dip finishing of Aluminium

등록 : 2008.09.12 ⋅ 58회 인용

출처 : eco-tech, na, 영어 8 쪽

분류 : 해설, 기타

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

AAC Anodizing Workshop, Atlanta 1995.

자료 :

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분류 :
자료요약
카테고리 : 회수재생 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.28
R5 공정은 농축된 (65~80 % w/w) 인산과 소량의 질산, 인산이암모늄 및 구리를 결합하여 황산 양극산화 전에 알루미늄 부품을 화학적으로 연마한다. 부품 표면에서 금속을 제거하면 인산알루미늄이 산에 축적되지만 수준은 일반적으로 30~45 g/L (알루미늄) 범위에서 안정화된다. 농도가 높을수록 전해식각 또는 수조에서 인...
  • 최근 원가절감의 요청으로 내부공극이 없는 소재에 관하여, 주조품과 소결체로 바뀌고 있다. 특히 소결체는 소형부품으로 생산성이 높아나 내부구조에 따라 도금방법이 달라...
  • [DuPont Riston PlateMaster PM200 Series / Plating Resister] - Negative working, aqueous processable sry film photoresist - Designed for pattern plate application...
  • 불산의 농도를 대폭 낮추기 위하여 불화암모늄 NH4F, 산성 불화암모늄 NH4HF2 등의 불소화합물 및 황산, 질산 등을 첨가한 혼산 용액을 제조하여 기존의 불산 베이스 에칭용...
  • 금, 니켈 또는 구리로 비전도성 표면의 금속화를 위한 용매방법으로 소재에 팔라듐의 열감응 배위 착화물이 도금된다. 복합체는 화학식 Lm PdXn을 가지며, 여기서 L은 리간...
  • 프라스틱 재료의 무전해 도금액의 조성에 관한 것으로 황산구리 혹은 염화구리를 구리염으로 사용하고 구리이온의 착화제로서 테트라덴테이트 질소 리간드 등을 사용