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무전해 메탄설폰산 구리욕에 있어서 도금 속도에 관한 욕 화학성분 및 착화 첨가의 영향
Influences of bath chemistry and complexing agent on plating rate in electroless copper methane sulphonate bath

등록 2021.12.07 ⋅ 57회 인용

출처 Indian Chem. Soc., 97권 11호 3020년, 영어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.08.01
무전해욕에서 도금 공정의 역학을 변경할 수 있는 성분은 착화제라고 생각한다. 착화제는 도금속도를 늦추고 석출 품질을 향상시킨다. 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산(DTPA)은 착화제로 사용된다 EDTA에 비해 octadendate 리간드로 높은 안정성과 석출속도를 나타낸다. 새로운 무전해 도금조는 착화제로 메탄 설폰산 구...
  • 도금용액에 특정 유기물질이 첨가된 다양한 금속 및 합금도금을 위한 전기도금 공정을 설명하였다. 이를 통해 매끄러운 광택마감, 수지상 성장방지 및 넓은 영역에 걸쳐 일...
  • Neo Chrome Bath ^ 네오크롬욕|1| 참고 [크롬도금] 보충자료 ^ Aurora NeoCrome Finishes
  • 수산화나트륨 수용액을 이용하여, 표면에 산화피막을 만들 목적으로 강산화제인 과황산염을 첨가한 연마액으로 알루미늄 Al 재를 처리할때 높은 연마효과를 얻을수 있는, 욕...
  • 서브 트랙티브법에 의한 프린트배선판 제법에 있어서 에칭 공정은 극히 중요하다. 에칭 기술의 변천과 미세회로 형성기술의 현황에 관하여 설명
  • Diamond Innovations는 전 세계의 공구 제조자들이 더 쉽고, 더 정량화가 가능한 방법으로 각각의 용도에 적합한 다이아몬드의 선정과 구매의 지침이 될 수 있는 기준의 설...