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유도 결합 아르곤 플라즈마 분광기에 의한 시안화 도금욕에 있어서 카드뮴과 구리 분석
Analysis of Cadmium and Copper in Cyanide Plating Solutions by the Inductively Coupled Argon Plasma Spectrometer

등록 : 2022.02.23 ⋅ 36회 인용

출처 : Kansas City Division, KCP-613-4421, 영어 17 쪽

분류 : 해설

자료 : 웹 조사자료

저자 :

기타 :

October 1991

자료 :

분류 :
자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.24
시안화물 도금 용액에서 카드뮴과 구리를 제어하기 위해 고전적인 장비에 의한 충분한 분석은 화학적 절차에 대한 정밀도, (및 정확도)를 체적 측정과 비교하였다.
  • cBN
    cBN ㆍ Cubic Boron Nitride cBN 은 입방정 질화붕소를 말하며, 열에 대해 안정적이고 철에 대해 불활성이라 열처리된 특수강의 가공에 적합하다. [질화붕소] 참고 [복합도...
  • 암모니아 처리를 동시에 부가하여, 방생 슬러지를 산화물로서 오니량을 저감한 산화처리의 메카니즘을 밝히고, 금속시안 착체등과 산화제와의 반응이 화학량론 적으로 됨을 ...
  • 미크론 · Micron 마이크로미터 (㎛) 를 말하며 10-6 m (1 미터의 100 만분의 1) 또는 10-3 mm (1 mm 의 1000 분의 1) 의 길이를 말한다. SI 단위에 사용되지 않으며 1967 년...
  • 알루미늄 또는 알루미늄 합금에 무전해니켈을 도금하는 방법이 설명되었다. 이 방법은 알루미늄 금속 반도체장치에 본딩패드를 제작하고 빔리드를 만드는데 특히 유용하다. ...
  • 무전해니켈(EN) 도금은 바람직한 특성으로 인해 부식방지, 장식코팅 및 전자제품과 같은 많은 응용분야에서 산업 및 일상생활에서 널리 사용된다. EN도금의 주된 목적은 본...