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무전해 도금 공정용 양자 기계적 접근
Quantum mechanical approach for electroless plating process

등록 : 2022.06.15 ⋅ 11회 인용

출처 : Surface Engineering, 28권 10호 2012년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.06.19
무전해 니켈 도금 공정을 위한 촉진제로 p-tolyl thiourea 및 diphenyl thiourea를 사용하여 고속 무전해 니켈 도금욕을 개발하였다. 화합물의 가속 효과는 중량증가와 전기화학적 방법에 의해 측정되었다. 두 화합물 모두 철강 표면에 강하게 흡착하여 석출속도를 상당히 향상시켰다. 가속기의 흡착은 Langmuir 흡착 등온선...
  • 발명의 바람직한 실시 양태에서, 크롬(iii) 이온, 코발트(ii) 이온 및 질산을 함유하는 전환피막 조성물이 제공된다. 피막조성물은 크롬(vi) 이온이 실질적으로없고 산화제...
  • 와전류식 두께 측정기 ^ Edgy Current Method Thickness Tester 도금 두께 측정의 한 방법으로 시료와 기기사이에 와전류를 통하여 피막의 두게를 측정하는 방법으로, 와전...
  • 아연-니켈-카드뮴 Zn-Ni-Cd 합금은 전위차 조건하에서 알칼리 전해조에서 전착되었다. pH 농도 다이어그램을 사용한 액분석은 도금액 안정성을 유지하기 위해 착화제의 첨가...
  • 세라믹 도금 ^ Plating on Ceramics [세라믹소재도금|세라믹 소재의 전기도금] 참고 [소재별도금|특수 소재의 도금]
  • 전류밀도를 변화할때 또는 음극을 회전할때 음극과 도금액과의 상대속도를 변화할 때의 입자 함유량의 변화에 관하여 주사전자 현미경을 이용한 관찰