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무전해 석출 공정 구리표면에 있어서 히드라진과 차아인산의 반응의 라만과 DFT 연구
Raman and DFT Study of the Reaction of Hydrazine and Hypophosphite on a Cu Surface in the Electroless Deposition Process

등록 : 2016.03.02 ⋅ 21회 인용

출처 : 전기화학, 81권 9호 2013년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.02
환원제의 산화는 무전해 도금 공정에서 지배적 인 요소다. 이 과정에서 고체-액체 계면 보다 정확한 제어를 위한 환원제 산화반응 메커니즘에 대한 기본 지식을 얻기 위해, 플라즈몬 안테나 강화 라만산란을 사용하여 구리 Cu 표면에 흡착된 환원제의 거동을 연구하였다. 단일 홀이 있는 딤플 어레이 또는 동축 딤플이있는 ...

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