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무전해 도금 공정용 양자 기계적 접근
Quantum mechanical approach for electroless plating process

등록 2022.06.15 ⋅ 44회 인용

출처 Surface Engineering, 28권 10호 2012년, 영어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.06.19
무전해 니켈 도금 공정을 위한 촉진제로 p-tolyl thiourea 및 diphenyl thiourea를 사용하여 고속 무전해 니켈 도금욕을 개발하였다. 화합물의 가속 효과는 중량증가와 전기화학적 방법에 의해 측정되었다. 두 화합물 모두 철강 표면에 강하게 흡착하여 석출속도를 상당히 향상시켰다. 가속기의 흡착은 Langmuir 흡착 등온선...
  • 이중 (이층) 크롬도금 ^ Duplex|1| Chrome Plating 물성이 다른 크롬도금 피막을 2층으로 도금하여, 내식성ㆍ내마모성ㆍ광택 등을 향상시키는 크롬도금을 말한다. 도금방법...
  • 무전해 니켈 도금 ^ Electroless Nickel Plating (이자료는 무전해니켈도금 세미나 번역 자료임) 예로부터 [무전해도금]은 공업적으로 은경 반응을 이용한 레코드판 등의 제...
  • IC 칩, 인터포저의 구리배선이나 전극패드를 형성하는 수법으로 황산구리 전기 도금법이 사용되고 있다. 그러나 도금 기술에 대한 요구(문제점)를 해설한 자료는 거의 없는 ...
  • 제4급 암모늄 ^ Quaternary ammonium 암모늄 (NH4+) 에 존재하는 수소가 모두 유기 분자 (알킬기 등) 로 치환된 것을 말한다. 4급 암모늄 화합물은 넓은 온도, ㏗ 범위에서 ...
  • 전류효율이 40% 로 높고, 무도금부의 에칭이 없으며, 종래욕의 3~5 배의 도금속도를 가진 새로운 고속 크롬도금욕 HEEF에 관한 설명