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크롬 Cr(III) 염의 메탄설폰산욕에서 크롬 전착의 동역학 및 메커니즘
Kinetics and Mechanism of Chromium Electrodeposition from Methanesulfonate Solutions of Cr(III) Salts

등록 : 2022.06.21 ⋅ 14회 인용

출처 : Applied Electrochemistry, 50권 5호 2014년, 영어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.07.30
Cr(III) 이온의 메탄설폰산 및 황산염 용액에서 크롬 전착 과정의 역학 및 메커니즘을 조사하였다. Cr(III) 전착물 이온의 전기 환원은 상대적으로 안정적인 중간체인 Cr(II) 화합물의 형성과 함께 단계적으로 진행되는 것으로 나타났다. 크롬은 이러한 전기화학 시스템에서 Cr(II) 수산화 석출물의 방전을 통해 전착되도록 ...
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  • 화학적 연마중 3단계의 존재는 주사전자 현미경으로 확인하였다. 질산, 황산, 첨가제 (OP-21 계면 활성제) 및 처리조 온도가 화학연마의 여러 단계에서 처리된 표면의 경면 ...
  • 탈지 ㆍ Degreasing (Cleaning) 탈지는 금속 등의 가공 처리후 물체 표면에 도포되어 있는 각종 오염물ㆍ유기물질과 금속가루ㆍ연마재ㆍ먼지 등의 무기물질을 표면에서 제거...
  • 스루홀 도금공정에 이용되고 있는, 무전해 구리 도금 전처리로서의 탈지 세척 촉매공정을 중심으로 해설하고, 프린트배선 기판은 그 형태로부터 리지드 배선기판과 프렉시블...
  • 금속 이온을 포함한 수용액으로부터 금속을 석출 시키는 방법에는 외부로부터 전류를 흘려주는 전기 도금법과 전기를 작용 시킬 필요가 없는 무전해도금법이 있다. 이 ...