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전기화학 임피던스 분광법 (EIS) 의 기본원리
NA

등록 2008.08.09 ⋅ 7317회 인용

출처 YI-AN-0504-0013EN, 2권 April 2005년, 한글 2 쪽

분류 교재

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자료요약
카테고리 : 교재참고자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.22
전기화학 임피던스 분광법은 주파수가 다른 미소한 교류신호를 셀에 부여하여 임피던스를 계측하는 방법이다. 이는 다양한 기술과 출력형태가 가능하고, 부식, 반도체, 연료전지, 전기도금 그리고 전기-유기합성 연구에 사용되고 있다. 첨부자료참조 : sc260720_001.pdf
  • 구리 또는 니켈과 같은 금속으로 상대적으로 불활성인 플라스틱 (예:폴리비닐리덴 플루오라이드) 을 무전해 도금하는 방법이 개발되었다. 이 공정에서는 플라스틱을 n,n- 디...
  • 1. 각종도금제품과 기능적특성, 전기적특성, 광학적특성, 열적특성, 화학적특성에 관한 비교표 2. 각특성의 개요와 용도별
  • 1944년 Brenner 와 Riddel 이 우연히 발견한 이래로 무전해 또는 자기촉매 니켈 도금은 실험실의 호기심에서 1억 달러 규모의 산업으로 성장했다. 첫 번째 알칼리성 암모니...
  • 질산 침지 ㆍ Nitric Acid Dipping [아연도금] 후 [크로메이트] 처리전의 도금상태 평가와 광택처리를 위한 1~5 % 정도의 질산에 침지하는 것을 말한다. 도금표면의 알칼리...
  • 도금처리하여 형성된 피도금물 중 불량한 것을 회수하여 불량 피막을 박리시킴으로서 재도금 가능한 표면을 형성하게 하는 개량된 표면 처리 조성물에 관한 것