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도금액의 여과기술
Plating solution filteration technologies
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분류
도금액여과 ⋅
자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2012.11.26
도금액 여과의 양부가 도금품질을 크게 좌우한다는 평소의 경험을 재확인 하고, 국내 도금공장에서 참고자료로 도움이 될것으로 믿어 이를 소개
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현대 산업 응용 분야에서 대체 전기 크롬 도금 기술에 대한 친환경 기술 수요를 고려하여 물리 기상 증착, 열 분무, 냉간 분무, 초고속 레이저 클래딩 및 복합 전기 도금의 ...
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구리의 화학연마 Copper Chemical Polishing 구리 33 ml nitric Acid 33 ml Phosphoric ACid 33 ml Acetic Acid 60~70 ℃, 1~2 분 산화피막은 제거해야 좋다 구리합금 30 ml ...
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PTFE 입자를 대신하여 전도성 물질인 흑연입자를 사용하여 도전성 향상을 꾀하였으며, 니켈 Ni 이 도금된 흑연입자만으로는 연료전지용 전극성형체 제조가 곤란하므로 그표...
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Zn-Ni 도금을 정전류 조건 하에서 표면 형태, 화학적 상 조성에 대한 전착 전류 밀도의 영향을 조사하였다. 전류 밀도 10~25 mA cm-2 에서 얻은 Zn-Ni 피막의 내식성을 측정...
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흥미있는 분야에서의 앞으로 예견되는 여러가지 표면기술분야에 대하여 그 발전추세를 알아봄 [表面處理기술의 發展추세]