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크롬 도금용 전극
CHromium plating electroad

등록 : 2008.09.19 ⋅ 58회 인용

출처 : 일본특허, 2000-104199, 일본어 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 설비관련 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.26
3가크롬도금에 적합한 전극으로, 도전성 기본체상에 산화이리듐을 포함한 전극물층을 가지며, 전극물층의 표면에 가공질층이 실리콘 Si, 물리브덴 Mo, 티타늄 Ti, 탄탈룸 Ta, 지르코늄 Zr, 텅스텐 W 등의 소량과 하나 이상의 원소를 함유한 산화물로 형성된 3가크롬의 산화에 의한 6가크롬의 생성율이 없는 [[크...
  • 배선물질의 구리로의 전환에 따라 새로운 층간 절연막/확산방지막의 개발. 상감공정을 통한 3차원 패턴구조의 형성, 습식/무전해도금을 이용한 무결함 구리막의 형성에 대한...
  • 5,5-디메틸 히단토인 (DMH) 을 착화제로 사용하여 비시안화욕에서 금 Au 도금 전착물의 특성에 대한 도금시간 및 광택첨가제 (사카린, 부틴디올 및 도데실 황산소다로 구성...
  • 바닐린과 헥사민 사이에 형성된 축합 생성물 (CP) 의 존재하에 염화물욕으로 부터 아연-니켈 Zn-Ni 합금의 전착이 수행되었다. 전착 및 핵형성 과정의 조사는 순환 전압전류...
  • 졸-겔법은 용액으로부터 출발하여 다공질 겔, 유기 무기 하이브리드, 유리, 세라믹스, 나노 컴포지트를 만드는 재료 합성법이다. 고온 재료를 종래의 용융법이나 소결법에 ...
  • The heart of the GES technique is the GAMMAT? easy processor which controls the different processes of gold refining like the electric circuit as well as the tem...