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양극 산화에 의한 실리콘 카바이드의 표면 가공
Surface Processing of Silicon Carbide by Anodization

등 록 2023.10.27 ⋅ 54회 인용

출 처 표면기술, 74권 4호 2023년, 일어 6 쪽

분 류 연구

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저 자

기 타 陽極酸化によるシリコンカーバイドの表面加工

자 료

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.11.04
SiC의 전기 화학 반응 활성을 높이는 접근법과 그것을 굳이 극한까지 저하시키는 접근법에 의해 SiC의 양극산화에 임하고, 다공성 구조의 형성, 위치 선택적인 금속 치환도금, 배리어 피막 형성과 그 개요를 소개하였다.
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  • 항공 우주 기업들은 항공 우주 NESHAP 가 발행되기 훨씬 전에 대기오염 제어 시스템없이 규제 요건을 충족하는 피막을 평가하기 위해 자원을 투입하였다.
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  • 최근 코팅, 페인팅 및 세척 기술의 발전으로 표면 준비 및 세척 요구 사항이 새로운 한계로 밀려났다. 대부분의 사람들은 표면이 깨끗해야 한다는 것을 알고 있지만, 불행히...