로그인

검색

검색글 298건
양극 산화에 의한 실리콘 카바이드의 표면 가공
Surface Processing of Silicon Carbide by Anodization

등록 2023.10.27 ⋅ 58회 인용

출처 표면기술, 74권 4호 2023년, 일어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

陽極酸化によるシリコンカーバイドの表面加工

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.11.04
SiC의 전기 화학 반응 활성을 높이는 접근법과 그것을 굳이 극한까지 저하시키는 접근법에 의해 SiC의 양극산화에 임하고, 다공성 구조의 형성, 위치 선택적인 금속 치환도금, 배리어 피막 형성과 그 개요를 소개하였다.
  • 무연 및 무카드뮴욕에서의 무전해 니켈도금 기술이 개발하였다. 자기촉매화에서 니켈 석출 속도가 22.4 ㎛ 임을 보여주었습니다. 이는 도금조 온도와 pH 값의 증가에 따라 ...
  • 캐닝 핸드북 2005년판의 전처리관련 부분 도금된 금속의 접착력에 달려 있기 때문에 완벽한 세척의 중요성은 아무리 강조해도 지나치지 않다. 도금에 적합한 깨끗한 표면을 ...
  • 스테인리스 스틸 합금으로 얻은 중크롬산염 침지 도금과 스테인리스 스틸 합금에 전기도금된 흑색 크롬과 흑색니켈의 흑색 선택적 피막을 표면형태 및 광학특성에 관한 연구...
  • ATPN ^ S-Carboxyethylisothiuronium betaine ^ 2-hydroxyethl imidothiocarbamate ^ Propanoic, 3-(aminoiminomethyl)thio- CAS : 5398-29-8 C4 H8 O2SN2 = 148.2 g/㏖ 성...
  • 8 종류의 욕을 만들고, 도금 가능한 욕과 불가능한 욕의 차이에 관하여, 도금액의 구성성분 및 침지 전위측정을 검토