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양극 산화에 의한 실리콘 카바이드의 표면 가공
Surface Processing of Silicon Carbide by Anodization

등록 : 2023.10.27 ⋅ 23회 인용

출처 : 표면기술, 74권 4호 2023년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

陽極酸化によるシリコンカーバイドの表面加工

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.11.04
SiC의 전기 화학 반응 활성을 높이는 접근법과 그것을 굳이 극한까지 저하시키는 접근법에 의해 SiC의 양극산화에 임하고, 다공성 구조의 형성, 위치 선택적인 금속 치환도금, 배리어 피막 형성과 그 개요를 소개하였다.
  • Pb-Sn-Cu의 붕불화도금액으로 윤수용 함금의 도금에 대한 연구
  • 기존의 황산구리도금 광택제는 아니린염료와 아조 또는 아조기를 기초로한 염료성 광택제 이다. 염료성 광택제의 장점은 광택과 레베링 특히 저전류부의 침투력과 광택도금...
  • 금은 부드럽고 연성인 금속이다. 공기중 녹슬거나 부식되지 않으며 화학적 공격에도 쉽게 반응하지 않는다. 비중이 19.3이고 정상적으로 1 또는 3가이다. 낮은 전기 저항을 ...
  • 납은 일반적으로 무전해니켈도금 공정에서 안정제로 사용된다. 무전해 니켈도금은 다양한 산업 생산 공정(예: 하드 디스크 생산 또는 부식 또는 마모 방지용)에서 사용...
  • 니켈 도금액 분석 ^ Nickel Plating Bath Analysis 황산니켈 도금액 1 ㎖ 를 정확히 취한다. 물 50 ㎖ 를 가하고 진한 암모니아수로 액이 청색이 될 때까지 가한다. MX 지시...