로그인

검색

검색글 치환도금 16건
양극 산화에 의한 실리콘 카바이드의 표면 가공
Surface Processing of Silicon Carbide by Anodization

등록 : 2023.10.27 ⋅ 23회 인용

출처 : 표면기술, 74권 4호 2023년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

陽極酸化によるシリコンカーバイドの表面加工

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.11.04
SiC의 전기 화학 반응 활성을 높이는 접근법과 그것을 굳이 극한까지 저하시키는 접근법에 의해 SiC의 양극산화에 임하고, 다공성 구조의 형성, 위치 선택적인 금속 치환도금, 배리어 피막 형성과 그 개요를 소개하였다.
  • 3가 크로메이트의 필요성 3가 크로메이트의 특성 기술적 고찰 1) Mechanism 2) SEM image 3) 내식성 4) 크로메이트시 주의점 5) 작업 process 6) 참고사항 3가 흑색크로메이...
  • PFOS ^ Perfluorooctanesulfonic acid 플루오린화 설폰산계 화합물 (불소계 계면활성제 / fluorosurfactant) 의 종류 중 하나로, 유해화학물질로 지정되어 생산이 금지되었...
  • COLGLEAM Sn / BRIGHT ACID TIN PLATING PROCESS / me290518_COLGLEAM_Sn.pdf The Use of Alkaline Cyanide-Free Zinc Plating Under Paint and Powder Coatings : me290602...
  • 플라스틱 재료, 일용품, 산업자재 등 매우 광범위하게 사용되고 시작한 것은 비교적 최근의 일이다. 차세대 및 플라스틱 물질로 일반적으로 널리 사용 된것은, 셀룰로이드, ...
  • 표준 전해질 대신 이소부틸산을 첨가한 저온도금욕을 조사하였으며, 전해질에 풀러레놀을 첨가하여 더 높은 내부식성 피막, 구조개선 및 미세 경도향상되었다. 붕산첨가 (와...