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검색글 Atsuko Hayashi 1건
휴대폰 PWB용 고인 무전해 니켈 공정
High Phosphorous Electroless Nickel Process for Mobile Phone PWBs

등록 2023.12.09 ⋅ 64회 인용

출처 SMEMA Council APEX, Designers Summit 04, 영어 9 쪽

분류 연구

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저자

Masahiro Nozu1) Akira Kuzuhara2) Atsuko Hayashi3) Hiroshi Otake4) Shigeo Hashimoto5) Donald Gudeczauskas6)

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분류
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.10
중인 니켈층을 사용한 무전해 니켈 및 침지 금(ENIG) 도금 공정은 현재 휴대폰 인쇄회로 기판(PWB) 의 최종 마무리에 사용된다. 추세에 따르면 휴대폰의 전세계 시장 성장에 따라 ENIG 마감 기판의 부식 환경에 더 높은 저항 특성의 요구가 증가하였다. 내식성을 높이기 위한 평가방법으로 다양한 방법이 소개되고 ...
  • 1. 도금피막의 밀착성 - 소재와 도금의 관계 2. 밀착성향상의 포인트 - 도금공정에 있어서 밀착성향상 (전처리, 도금공정, 후처리) 3. 해당 연구소개 - 프라스틱, 알루미늄...
  • 새로운 분소채약과 그 채약의 특징을 살린 무전해법으로 만든 도체형성 프로세스의 개발
  • 애플리케이션의 POTW에 대한 안내와 전기 도금 및 금속 마감 카테고리에 대한 카테고리 전처리 표준의 시행을 제공한다. 이 문서는 주로 두가지 출처인 Federal Register no...
  • 금-코발트-인듐 합금도금 Gold-Cobalt-indium Alloy Plating 금-코발트, 금-인듐 등의 도금욕은 두꺼운 도금을 할수 없으나 금-코발트-인듐 합금 도금욕은 광택이 있는 두꺼...
  • 순수 주석 Sn 도금의 다양한 표면처리 조건에서 위스커 거동을 제시하였다. 600 주기의 온도순환 테스트와 1 년의 주변저장을 각각 수행하였다. 온도 사이클링 테스트 결과,...