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검색글 JIN Huiyi 1건
비귀금속 이온으로 활성화된 실리콘 기반 표면의 무전해 니켈 도금 연구
Study on Electroless Nickel Plating of Non-Noble Metal Ion Activated Silicon Surface

등록 2023.12.24 ⋅ 87회 인용

출처 Plating and Finishing, 44권 2호 2022년, 중국어 5 쪽

분류 연구

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기타

非贵金属离子活化硅基表面化学镀镍研究

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자료요약
카테고리 : 비금속무전해 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.28
실리콘 기판에 무전해 도금을 통해 니켈막을 제조하기 위해 활성화 시약으로 NiCl2 및 CuSO4 를 사용한 연구 결과, 니켈 이온과 구리 이온이 모두 존재하는 것으로 나타났다. 실리콘 기판 표면의 무전해 니켈 도금을 위한 활성화제로 귀금속 이온을 대체할 수 있으며, 단일 피막의 두께는 약 4~7 μm 이고 , 두 활성화 방법의...

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