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옥살산염 및 아세트산 음이온이 존재하는 Cr(III) 용액의 크롬 전착에 관한 연구
Study on the Electrodeposition of Chromium from Cr(III) Solution in the Presence of Oxalate and Acetate Anions

등록 : 2024.03.01 ⋅ 38회 인용

출처 : Electrochem. Sci., 15권 2020년, 영어 17 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.03.14
옥살산염과 아세테이트 음이온의 조합을 기반으로 크롬(III) 도금욕을 평가하기 위해 헐셀 (HullCell) 을 사용하였다. 도금욕은 황산 크롬(III), 옥살산 암모늄, 아세트산 나트륨, 붕산, 황산 칼륨, 황산 나트륨 및 SDS (도데실 황산 나트륨) 가 포함되어 있다. pH는 3.5 였으며 모든 종은 양성자화되었다. 크롬(III) 도...
  • 특정 가속기 흡착과 분극특성 사이의 차이와 다양한 첨가제 조합의 작용을 조사하려했다. 구리회전 디스크전극 (RDE) 장치를 사용하여 다양한 화학적 흡착거동과 후속 전기...
  • 과거에 보고된 공석기구 및 저자의 나노다이아몬드 및 TiO2 나노입자의 복합도금에 관한설명과, 나노입자의 복합화기구에 관한 기초적이고 직감적인 방법을 소개
  • 전해도금법으로 주석 Sn-2.5 구리 Cu 합금을 전착한후 미세구조, 전기전도도, 접착강도를 측정하여 Sn-Cu 합금의 표면마무리용 재료로서의 적용 가능성을 편가하였으며, 도...
  • 일본 Meiji 사의 금속현미경
  • 미립자로서 콜로이드형 Si 를 사용하고, 금속이온으로는 Zn2+ 이온, Ni2+ 이온을 선택하여, SiO2 콜로이드와의 전석거동, 도금층구조등 동석기구에 관하여 고찰