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고인 무전해니켈도금
High Phosphorus Electroless Nickel Plating

등록 2024.03.26 ⋅ 128회 인용

출처 일본특허, 2017-527688, 일본어 14 쪽

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.03.26
니켈 이온 공급원, 유효량의 티오우레아, 유효량의 사카린, 차아인산 이온 공급원, 하나 이상의 킬레이트제, 첨가제의 고인 무전해 니켈 도금으로 진한 질산에 30초간 침지하여도, 흑색 또는 회색으로 변화하지 않는 도금
  • 짧은 전류펄스와 훨씬 더 긴 "오프" 시간으로 펄스도금을 수행하면 도금중에 심각한 확산 분극이 발생하지 않으므로 알칼리 시안화욕에서 도금된 금 Au -니켈 합금의 특성은...
  • 서밋법으로 합성한 질화지르코늄 ZrN 분말이 미분체로 전도성을 가짐에 착안하여, 생성물과 부생성물의 분리조작을 간편하게 생성물의 ZrN 미분체를 고효율로 회수하기 위한...
  • 알루미늄은 규소(Si)에 이어 지각 표층부에 가장 많이 매장되어 있는 원소이며, 루비, 사파이어 등의 보석은 알루미늄의 산화물이다.
  • 비아필링 ㆍ VIa-filling 레이저 가공후 홀을 100 % 도금하여 다층 적층하는 방법이다. 별도의 시설 없이, 도금을 이용한다. [비아필링] [황산구리] (acid copper plating f...
  • 경질 크롬도금의 불량대책 ^ Hard Chrome Plating Trouble shooting 부풀음 소재불량 ⇒ 소재의 핀홀 내부에 포함된 불순물이 작업중 수소가스 및 패창에 의하여 외부로 돌출...