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Pd 촉매와 S 리간드를 이용한 직접 구리 도금의 기계적 연구
Mechanistic Study of Direct Copper Plating Using a Pd Catalyst & S Ligand
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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.07.22
Pd/S 촉매를 이용한 직접 도금 메커니즘을 도금 성능을 기반으로 조사하고 흑연 콜로이드 필름을 사용한 시스템과 비교하였다. Pd/S 층의 표면 전도성보다는 황 원자의 가교-리간드 특성으로 인해 도금이 발생했음을 나타내었다. Pd+2, S-2 및 SO4 용액에 담근 후 형성된 Pd/S 화합물의 구조는 PdS 대신 Pd4S 이었다.
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인쇄된 구리회로 표면의 납땜성을 부여하는 알려진 방법은 금속표면에 불규칙한 두께의 외층이 형성되거나 이러한 층이 매우 비싸거나 이를 제조하는 데 사용되는 성분이 환...
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피로인산 나트륨 인산염 피막의 구조 및 내식성에 미치는 영향을 주사전자 현미경, 편광곡선, 전기화학 임피던스 스펙트럼과 염수침지 실험을 통하여 연구하였다. 인산염 용...
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WT ^ polyquaternium-2 Diaminoarea Polymer ^ Poly〔bis(2-chloroethyl) ether-alt-1,3-bis〔3-(dimethylamino)propyl〕urea〕 quaternized, solution CAS 68555-36-2 (C15...
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알칼리 세척은 업계에서 광범위 하게 사용되는 오래된 기술이다. 최근에는 염소화 및 석유 기반 용매(예 : 1,1,1- 트리크로로에탄 및 Stoddard 용매) 와 관련된 환경 및 개...
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고체구리-구리 결합은 알려진 무전해구리욕을 사용하고 질소환경에서 1시간 동안 180 ℃ 에서 저온 어닐링을 사용하여 입증되었다. 공정 실행 가능성이 입증되었지만 본...