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헐셀을 대신한 새로운 셀의 제안
New Cell as a substitute for Hull Cell

등록 2010.01.07 ⋅ 46회 인용

출처 금속표면기술, 29권 3호 1978년, 일어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.02
헐셀은 음극이 양극에 비스듬하게 배열된 실험용 도금셀로, 광범위한 전류밀도의 도금은 단 한번의 전착만으로 테스트가 가능하다. 따라서이 셀은 도금상태 결정, 도금액의 구성 및 도금 욕제어에 널리 사용된다. 그러나 음극의 임의 지점에서 전류밀도를 이론적으로 정확하게 계산하기는 어렵다. 따라서 일반적으로 몇 가지...
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  • PCB 제조에 사용하기 적합한 유기첨가제 분석에 대한 접근방식을 포함하여 구리 전기도금욕 제어에 사용되는 방법에 대한 개요를 설명하였다.
  • 무전해 니켈-붕소(NiB) 피막의 거칠기와 도금 속도에 대한 연구를 안정제와 실험 설계를 통한 욕조 조성의 최적화를 하였다. 다양한 농도로 사용되는 착화제인 에틸렌디아민...
  • 주석-니켈 전착용 도금조는 우수한 치투력을 가지고 있습니다. 상용 도금욕에서 얻은 전착은 상당히 매력적이지만 석출은 대부분의 장식용도에 필요한 만큼 투명하고 밝지 ...
  • 다공성 변환 필름은 무전해 니켈도금 이전의 감수성 처리중 흡착에 이점을 제공한다. Ni-P 도금이 변환 피막에 성공적으로 도금된다. 주석산염 변환피막의 존재는 Ni-P 피막...