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메탄설폰산으로부터 주석 석출의 전기화학
Electrochemistry of Tin Deposition from Methanesulfonic Acid

등록 2024.08.26 ⋅ 75회 인용

출처 Metals, 14권 2024년, 영어 15 쪽

분류 연구

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저자

Yuantao Yang1) Junli Wang2) Xuanbing Wang3) Jinlong Wei4) Xiaoning Tong5) Ruidong Xu6) Linjing Yang7)

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.08.26
주석의 전해는 일반적으로 Glu 와 β-naphthol의 사용하여 규불산산 (H2SiF6) 욕을 사용한다. 그러나 H2SiF6 의 높은 포화 증기압과 낮은 안정성은 환경 문제를 야기하며 지속 가능한 개발 목표와 일치하지 않습니다. 주석의 전기화학적 거동을 환경 친화적인 메탄설폰산 (MSA) 시스템을 연구하였다. Glu, 리그노설폰산나트륨...
  • 아세틸렌 · Acetylene 알카인 계의 탄화수소 중 가장 간단한 형태의 화합물로 화학식은 C2H2 이다. 에틴이라고도 하며 천연으로는 존재하지 않는다. 1836년 H.데이비 가 발...
  • 최근의 전자기기관계에서의 표면처리 및 이와 관련된 화학기술의 사용도는 단순한 방세, 장식에서 석출되는 금속의 특성을 활용하거나, 이러한 기술을 부품 제작 수단으로 ...
  • TiC 와 SiC 입자가포함된 Ni도금욕에서의 복합도금으로, TiC 및 SiC 입자첨가량이 도금막의 결정성, 형태, 공석량 및 경도에 주는 영향에 관하여 조사
  • 현재 필자등이 실시한 알루미늄 화학연마 작업의 개요를 소개하고 산업적 의미에 대해 필자등의 견해를 더하여 본 작업 진행중에 종종 특이 현상을 소개하며 이에 의하여 화...
  • 적하식두께측정법 ^Dropping Thickness Test 일정 농도의 부식액을 떨어트려 도금막이 파괴되어 소재(주로 철강)가 나올때 까지의 시간을 측정하여 두께로 환산하는 방법이...