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전기화학적 기계적 증착 기술로 성장된 구리층의 특성화
Characterization of copper layers grown by electrochemical mechanical deposition technique
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자료요약
카테고리 : 건식도금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.03.19
전기화학적 기계적 증착(ECMD)은 비평면 소재 표면에 평면 구리 필름을 증착할 수 있는 새로운 방법이다. 이 기술은 전기화학적 증착(ECD)과 평탄화 패드로 소재 표면을 동시에 쓸어내는 것을 포함한다. ECD와 ECMD 기술로 성장한 구리 층의 결정화 메커니즘에 근본적인 차이가 있는지 조사하였다. ECD와 ECMD 방법으로 증착...
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도금은 산업적 중요성이 큰반면 환경에 미치는 영향이 지대하며, 중소기업형 산업으로 정부차원의 기술적 재정적 지원이 필요한 분야이다. 그러나 도금공정의 청정화를 위하...
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에틸렌디아민 착화욕에서 전석 구리피막의 결정구조, 피막경도의 경시변화를 측정하고, 열분석 및 피막중에 포함된 물질의 정량과, 경시변화의 기구에 관하여 검토
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디설파이드 결합을 가진 폴리이미드를 합성하여, 이 화합물의 구리 방식제로서의 가능성에 관한 검토
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상온 전석욕중에 침지한 기판전극을 통전가열하고, 전극을 승온하여 열전극법을 고안하였으며, 이를 아연전석물의 표면형태의 전극가열의 영향에 관하여 검토
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크롬 도금액 분석 ^ Chromium Plating Bath Analysis 무수 크롬산 도금액 2 ㎖ 를 정확히 100 ㎖ 메스플라스크에 취한다. 표시선까지 물로 희석한다. 다시 희석액 10 ㎖ 를 ...