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검색글 Akira YAMANO 1건
반도체제조 프로세스에 있어서 세척 및 평가방법
Cleaning and estimation technology of semiconductor manufacturing process

등록 2010.01.13 ⋅ 55회 인용

출처 실무표면기술, 34권 2호 1987년, 일어 7 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.13
반도체 공정은 정밀하게 세척하지 않으면 정밀성과 신뢰성이 높은 소자의 제작이 불가능하다. 최근 세척 및 평가기술에 관하여 언급
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  • PEI
    PEI (Polyethyleneimine) cas 9002-98-6 H(NHCH2CH2)nNH2 = 300~1,000 |1| 연한 황색 액상 아연도금ㆍ구리도금 광택제 참고 [PEI-PS] Sulfopropylated polyethyleneimine WI...
  • (주)비아텍을 참여기업으로 하여 다량으로 배출되지만 전량 슬러지 처리로 매립하고 있는 동 도금 수세 폐수에서 전기화학법을 주공정으로 하여 동을 회수하는 시스템을 개발
  • OCT-15 [OCT5|OCT-5] 참고