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Osamu MATSUMOTO 1건
프라즈마화학의 기초
Fundamental aspects of plasma chemistry
자료 :
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- 분류 : 프라즈마 ⋅
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.27
방전으로 생성된 프라즈마 화학반응을 이용한 분야가 프라즈마화학이다. 프라즈마의 기초를 설명하고, 이를 화학반응에 이용한 이점에 관하여 설명
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장식용 크롬도금에서 도금표면의 외관에 대한 전류차단의 영향을 조사했다. 전류차단으로 인한 도금된 표면의 흐림은 도금액의 온도에 크게 좌우되었다. 온도가 낮을수...
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프리딥 · PreDip [인쇄회로|프린트 배선기판]의 [무전해도금] 전처리 공정 중 촉매처리 전에 묽은 염산 등에 침지하는 것을 말한다. 참고 [인쇄회로기판|PCB 도금공정] [PCB...
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아연니켈 도금용 유색 내식성 향상제, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 아연니켈 도금의 표면을 내식 성 향상 처리하는 방법에 관한 것으로서, 구체적을 설명하면, 아연-니...
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비정질 Ni-Mo 합금 매트릭스에서 TiO2 입자의 복합 전착은 아나타제 또는 브루카이트 TiO2 입자가 현탁된 시트레이트 용액 (pH5.0) 을 사용하였다. 200g dm2 의 TiO2 를 함...
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팔라듐의 무전해도금에 관하여 기초적 검토를 하고, 무전해도금에는 표면 활성화 처리하여 도금하는 지지체의 표면에 환원반응의 촉매인 팔라듐핵의 침지가 필요하다. 여기...