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에칭 기술에 의한 미세 가공
Microstructures Fabricated by Anisotropic Wet Etching Technologies
자료
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2025.10.06
Si의 결정 구조를 이용하여 Si 기판을 에칭함으로써 얻어지는 형상은 결정 구조에 의존하고, 드라이 에칭에서는 실현할 수 없는 다면체 형상이 된다. 이하, 결정 이방성 에칭 기술에 대하여 상세히 설명한다.
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무전해도금욕과 접촉 후 MAO 코팅 AZ31B 마그네슘 합금의 열화를 방지하기 위해 무전해 니켈-인(NieP) 도금액에 불소를 첨가하였다. 무전해 NieP 도금 공정 중에 불화물...
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고전류밀도 덴드라이트 형성을 감소시키고 산성 아연염으로부터 얻은 아연 피막의 고전류밀도 거칠기, 입자 크기 및 배향을 제어하기위한 고전류밀도 전기아연 도금공정 및 ...
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양극산화에 의해 형성되는 다공성 산화물 피막은 높은 표면적을 가지며, 기공크기, 두께는 생성 전압과 생성시간에 의해 제어가능 하기 때문에 기능성 재료로서의 응용이 기...