로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Mitsuhiro SHIKIDA 2건
에칭 기술에 의한 미세 가공
Microstructures Fabricated by Anisotropic Wet Etching Technologies

등록 2025.10.06 ⋅ 3회 인용

출처 표면기술, 76권 4호 2025년, 일본어 5 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

エッチング技術による微細加工

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2025.10.06
Si의 결정 구조를 이용하여 Si 기판을 에칭함으로써 얻어지는 형상은 결정 구조에 의존하고, 드라이 에칭에서는 실현할 수 없는 다면체 형상이 된다. 이하, 결정 이방성 에칭 기술에 대하여 상세히 설명한다.