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3차원 패키징을 한 TSV의 다양한 Cu 충진 기술
Various Cu Filling Methods of TSV for Three Dimensional Packaging

등록 2018.01.15 ⋅ 46회 인용

출처 KWJS, 31권 3호 2013년, 영어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

노명훈1) 이형2) 김원3) 정재필4) 김형태5)

기타

TSV : through sillicon via . 실리콘 웨이퍼를 관통하는 미세홀을 형성하는 기술

자료

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분류
자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2018.01.15
TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개
  • P
    P · Polyglycol [황산구리도금|황산구리 도금] 첨가제로, 다른 첨가제와 같이 사용시 전면 광택 작용을 하며, 낮으면 레베링과 광택이 동시에 낮아지며, 높으면 밀착력 저하...
  • 광택니켈도금 후의 경도가 Rc55~65 또는 Hv 600~850 로 나타납니다. 열처리하면 낮아질수 있습니까?
  • BAOF 의 결정구조, 고전장성 자기구, 이온이동과 피막구조, 결정성 산화피막의 생성, BAOG 의 절연파괴, BAOF의 중성 용액중에 있어서 산화, BAOF 산화 Al의 아노드 분극시...
  • 3가철 이온을 함유한 주석-철 합금도금 피막을 만들어, 피막조성 표면형태 X선회절 패턴, 내식성에 있어서 펄스전류의 영향을 조사
  • 서스캅 · SUSCOP SUSCOP 은 [스테인리스강] 판에 구리도금한 제품으로 스텐리스의 내구성과 구리의 온화함을 더한 복합재료로서 건축물의 외장 마감 등에 이용된다. 특징 내...