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검색글 도금액분석 6건
반도체 가공처리액의 조성분석
NA

등록 : 2010.04.29 ⋅ 57회 인용

출처 : na, NA, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体加工処理液の組成分析

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.18
CMP 슬러리의 성분 분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다. 1. CMP 슬러리의 조성분석 2. 동 도금액의 조성분석
  • 1. 부착하는 먼지의 종류와 분류 2. 도금 전처리 대해 - 기본적인 전처리 공정·탈지 세정·산 세척·산 전해 세척·전기 분해 3. 도금액 관리의 포인트 (액 관리와 노화 정도) ...
  • 무전해 니켈도금액의 조성변화와 도금조건 변화에 따른 도금속도 및 피막특성에 대하여 연구한결과로, 니켈염 및 차아인산소다의 농도증가, 도금액 pH 및 온도상승에 따라 ...
  • 철강재료의 수소흡장과 이에 따른 취화 균열에 관하여 기본적인 사항과 이해를 해설
  • 환경오염 문제는 이제 모든 산업에서 중요도가 매우 커지고 있다. 알루미늄 제품의 도장하지 처리에 사용되는 크롬산염 처리 공정에서 사용되는 6가크롬의 화성처리제는 유...
  • 산화 구리 · Copper Oxide 산화제일구리 Cu2O (아산화구리) 와 산화제이구리 CuO 가 있으며, 산화제일구리는 자연에서 적동광으로 산출된다. 물에 녹지 않고 묽은 황산에 녹...