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카테고리 : 기술자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.03.18
반도체 칩의 소형화 대용량화 고속화에 따라 반도체 패키지의 박형화 다핀화 고집적화가 이루어지고 있다. 최근 위이퍼 레벨 CSP가 대부되고 있고 SiP, SoC 기술이 발전하는 등 그 추세가 더욱 뚜렷해지고 있다.
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습식 에칭, 특히 공업상 중요한 가공 방법인 포토에칭에 관하여, 그 이론과 최근의 제품 동향, 기술동향에 관하여 해설
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전착의 특성은 광범위한 응용분야에서 중요하다. Safranek은 The Properties of Electrodeposited Metals and Alloys 에 대한 두개의 텍스트에서 속성 데이터와 함께 이를 ...
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니켈 또는 니켈합금 도금의 전착을 위한 수용성 산성도금욕에는 니켈이온 및 일반식을 갖는 첨가제가 포함된다. 2C = CHCH2 NR1 R2 또는 2C = CHCH2 N + R1 R2 R3] n Xn- 여...
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시안화물이 없는 무전해금도금욕을 개발하기 위해 디설파이드 아우레이트와 티오우레아 또는 그 유도체의 사용을 연구 하였다. 환원제로서 9가지 유형의 황함유 화합물...
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전착전류 밀도, 전류 효율, 광택 및 도금표면 형태는 주석산 칼륨나트륨 욕에서 구리-아연 Cu-Zn 합금의 전기도금에 대한 6가지 보조 착화제의 효과를 연구하기 위한 평가지...