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카테고리 : 기술자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.03.18
반도체 칩의 소형화 대용량화 고속화에 따라 반도체 패키지의 박형화 다핀화 고집적화가 이루어지고 있다. 최근 위이퍼 레벨 CSP가 대부되고 있고 SiP, SoC 기술이 발전하는 등 그 추세가 더욱 뚜렷해지고 있다.
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균일전착성의 요인을 해명할 목적으로 각종 니켈도금욕에 관하여 헐셀을 이용한 균일성을 측성하여, 욕조성에 의한 균일전착성의 다른점을 비교검토
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마그네슘 특유의 표면현상을 이용하여, 기초적인 산화피막 성장의 기구와 표면 억제법으로 양극산화에 관하여 설명
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금도금 공정 ^ Gold Plating Process 1. 제품검사 2. 전처리 3. 스트라이크 도금 4. 수세 5. 하지 도금 6. 수세 7. 금도금 8. 마무리 검사 및 포장 참고 [금은도금공정|금ㆍ...
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흑색 크롬도금 무전해도금의 생성법과 그 생성물층의 성질등에 관한 설명
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예비실험 결과 우수한 특성을 보이고 있는 아라비아 검의 첨가량을 달리하여 실험한 경우와 아라비아 검과 염소이온을 복합적으로 첨가한 경우에 대하여 이들 첨가제가 동박...