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무전해 도금법에 의한 팔라듐의 석출속도에 관한 검토
Study of Palladium Deposite speed from Electroless Plating

등록 2008.07.31 ⋅ 138회 인용

출처 SCEJ 37th, 2005, 일어 1 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 관리자 | 최종수정일 : 2021.01.22
Quarts-crystal microbalance법 (이하 QCM) 을 이용하여, 여러 도금욕 조성 및 조작조건에 있어서, 금속의 석출량을 연속적으로 측정하여, 팔라듐 박막의 성장속도와 석출형태에 관하여 실험을 검토
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  • 도데실벤젠설폰산 ^ Dodecylbenzenesulfonic Acid ^ Sodium alkylaryl sulfonate ^ 라우릴황산소다 CAS No 27176-87-0 CH3(CH2)11ㆍC6H4SO3 = 326.5 g/㏖ 백색의 결정성 분...
  • 표준 환원전위 ^ Standard Reduction Voltage 수소 이온이 물 속에서 환원하여 수소로 될 때의 전위를 0.00 V 로 하여 기준으로 삼고, 이에 대한 어떤 금속 이온이 환원하는...
  • EDTA 욕 및 Quadrol 욕에서 만든 화학 구리도금 피막에 관하여, 박막의 피로왜연성을 정량적으로 평가한 피로연성 (Fatigue Ductility) Flex Tester 로 측정하고, 피로 왜연...