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검색글 Hiroshi Matsubara 8건
무전해니켈 도금막중의 크러스터 다이아몬드 미립자의 공석
Co-deposition of Cluster diamond into electrolessly plated nickel films

등록 2008.07.31 ⋅ 75회 인용

출처 표면기술, 54권 5호 2003년, 일어 2 쪽

분류 연구

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저자

Hiroshi MATSUBARA1) Hisashi TAZAWA2) Nobuo SAITO3) Hiroshi NISHYAMA4) Yasunobu INOUE 5) Masao MAYUZUMI 6)

기타

無電解ニッケルめっき膜中へのクラスターダイヤモンド微粒子の共析

자료

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
무전해도금 막중의 크러스터-다이아몬드 공석량을 증가하기 위한 기초 데이타를 만들 목적으로, 무전해니켈도금을 예로 검토한 결과 보고
  • 균일전착성 피막의 연성 솔더특성 레지스터밀착성 에칭특성을 만족 분해생성물이적고 불순물에 둔감하여 활성탄처리 주기를 연장 [Bright Acid Copper Process Cu-BRITE TH]
  • 무전해도금을 이용하지 않고 직접전기구리도금을 하는 새로운 도전화기술이 개발되어 이의 현황을 소개
  • 로듐 Rh는 백금 Pt, 팔라듐 Pd, 오스뮴 Os, 이리듐 Ir, 루테늄 Ru 함께 백금족의 하나로 보통은 검정회색 가루로 시판되고 있다. 백금족은 Os, Ir, Pt 를 중백금족 (원자 번...
  • PVI
    Basotronic PVI ^ Quaternized Polyvinylimidazol 양이온성 폴리머로 [스루홀] 천공의 벽에 촉매가 균일하게 도포되도록 하여 균일한 무전해 구리층이 적용될 수 있도록 한...
  • 제작/가공 일을 하면서, 표면처리에 대해 외주만 주다보니 도금 관련 지식이 많이 부족하네요. 주로 하는 표면처리는 철,알루미늄에 아노다이징, 크롬도금을 주로 하고 있으...