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무전해도금에 의한 안티몬 피막의 형성
Formation of antimony film by electroless plating

등록 : 2008.08.02 ⋅ 71회 인용

출처 : 표면기술, 43권 6호 1992년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.03.30
무전해안티몬도금의 개발과, 화합물 반도체 재료로서 사용되는 안티몬 박막이, 아루미나 세라믹과 폴리이미드 필름 등의 부도체 소재표면에 1.70 mg.cm-2.h-2 의 속도로 무전해석출된 보고서
  • 역학의 Four Point Bend 와 Acoustic Emission 을 결합한 방법을 사용하여 소재에 무전해 니켈-인 Ni-P 도금의 밀착강도를 측정했다.이 방법으로 얻은 실험결과는 복합도금 ...
  • 백금피복티타늄전극에 관하여 전기화학적 특성 및 공업전해용 전극으로서 응용범위에 관하여 해설
  • 본 발명의 주석-비스무스 Sn-Bi 합금 도금욕은 pH 가 약 2.0~9.0 이며, 또한 Bi 이온, 주석 Sn 이온, 착화제(Ⅰ) 및 착화제(Ⅱ) 를 포함한다. 착화제(I)는 알킬기의 탄소수가 ...
  • 포름알데히드 · Formaldehyde 페놀 수지ㆍ요소수지ㆍ멜라민 수지 등의 원료로 사용되나 멜라민 수지제의 식기에 남아 있는 포름알데히드의 독성이 문제가 되고 있다. HCHO ...
  • 구리배선 동정에 있어서 확산방지막, 도전층, 전해/무전해도금, 화학적 기계적 연마, 보호막 형성등의 금속화 공정에 대한 개요와 연구개발 이슈를 소개하고 최근의 연...