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프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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IC 장치 속도를 높이려면 RC 지연을 줄이는 것이 중요하다. Cu 는 인터커넥트의 저항률을 낮추기 위해 채택되었으며 유전상수를 낮추기 위해 몇 가지 물질을 연구하였다. 은...
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니켈 전기도금욕에 관한 기술 매개변수로 다양한 물질의 영향을 연구하였다. 특히 침투력을 전류 속도 및 다른 원자의 동시 전착은 물론 시각적인 부분까지 신경을 썼다.
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예비실험 결과 우수한 특성을 보이고 있는 아라비아 검의 첨가량을 달리하여 실험한 경우와 아라비아 검과 염소이온을 복합적으로 첨가한 경우에 대하여 이들 첨가제가 동박...
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산성 글루콘산욕으로부터 주석의 전석욕(염화물, 염화물-황산염)을 조사했다. 평형 두용액에서 주석(2)의 분포는 계획된 전위차 및 정전류 측정 결과 순환 전압 전류, 주석 ...
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염화 이온과 폴리에틸렌글리콜 (PEG) 구리 다마신 전기도금의 첨가제로 함께 사용되어 도금을 억제한다. 염소 (Cl-) 농도가 1 mM 수준보다 낮으면 억제가 임계전위 이하로 ...