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프탈산 1건
프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH
등록 : 2012.11.10 ⋅ 14회 인용
출처 : ADIOANAL.NUCL.CHEM.,LETTERS, 118권 1호 1987년, 영어 14 쪽
분류 : 연구
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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트리프루오르삭산 구리의 농도를 높게할 경우, 평골한 광택이 있는 구리 전석물을 만드는 전류밀도의 범위와, 아노드나 캐소드의 전류효율등의 영향을 조사
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용사 아연계 용융도금 알루미늄 용융도금 기타 용융도금
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인산아연 처리기술은 예로부터 발전하여 철기를 시작으로 지금까지 많은 용에 응용 개량되어 왔다. 일본에서의 안산염 처리기술의 공업적 이용이 80년이상 되었다.
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무전해구리 도금용 전해액에 킬레이트제 또는 첨가제로 에틸렌디아민 테트라아세트산 이나트륨염 (Na2EDTA), 트리에탄올아민 (TEA), 2,2'- 디피리딘을 사용 하였고 환원제로...
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붕산의 대체로서 구연산을 이용한 전기니켈 도금욕에 관하여, 도금욕 조성이나 도금조건을 변화하여, 도금외관 음극전류 효율, 액의 pH 완충성등에 관하여 와트욕과 비교검...