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하지 니켈-인 피막의 적용에 의한 전해 금-코발트/니켈 프로세스의 내식성 개선
Application of Electrodeposited Ni-P film for the improvment of corrosion resistance in au-Co/Ni process

등록 2012.12.04 ⋅ 48회 인용

출처 표면기술, 63권 4호 2012년, 일어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.27
고전류밀도영역에 응용가능한 설파민산욕의 전해 니켈-인 도금액 개발을하였고, 전해 니켈-인 도금피막을 이용하여, 전해경질금 도금후의 내식성을 검토..
  • 에틸렌디아민 · Ethylendiamine CAS 107-15-3 H2NCH2CH2NH2 C2H8N2 = g/mol 무색~약한 황색 유기합성원료, 섬유처리제, [EDTA] 수지 등의 제조원료로 사용 도금에서는 [탈지...
  • 황산니켈과 텅스텐산소다을 포함한 아세트산 욕을 사용하여 연강에 니켈 텅스텐의 무전해 도금을 하였다. 아세트산나트륨과 텅스텐산나트륨이 도금에 미치는 영향과 함량 및...
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  • 에칭후 노출된 면적의 에칭양을 중량 변화로부터 조사하여 에칭속도로 하였으며, SEM을 이용하여 에칭 된 Groove 표면을 관찰 하였다
  • 재료표면에 재료와는 성질이다른 기타의 물질(금속 및 합금등)의 박막을 형성하여, 목적하는 기능특성을 부여하는 습식도금(전기도금 및 무전해도금)법에 관하여, 개요와 그...