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프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH

등록 2012.11.10 ⋅ 28회 인용

출처 ADIOANAL.NUCL.CHEM.,LETTERS, 118권 1호 1987년, 영어 14 쪽

분류 연구

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카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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  • - 6가 크롬 프리타입 - 고농축액으로 내식성및 크로메이트 처리 방식에 따라 유연성이 높다 - 불소 성분과 산화제가 없어 폐수처리 용이 - 피막의 내식성이 6가 크로메이트...