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프탈산욕에서 텔루륨의 전착
ELECTRODEPOSITION OF TELLURIUM FROM PHTHALIC ACID BATH

등록 : 2012.11.10 ⋅ 14회 인용

출처 : ADIOANAL.NUCL.CHEM.,LETTERS, 118권 1호 1987년, 영어 14 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석은 도금이 육각형 구...
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  • 복합 형성 첨가제 (글리신 및 옥살산) 와 차아인산소다를 포함하는 황산염 전해질에서 비정질 철-인 Fe-P 합금 전착을 위한 최적의 조건이 설정되었다. 도금 용액의 pH, 전...