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무전해도금 방법 및 광 푸로브
NA

등록 : 2008.08.02 ⋅ 32회 인용

출처 : 일본특허, 2004-84013, 일어 10 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.09
사이즈 의존 무전해도금의 선택성을 서브미크론에서 나노미터 오다의 범위까지 제어가 가능하며, 100 nm 이하의 개구부 직경을 선철부선단이 쉽게 형성하는 광 푸로브를 제공 [無電解めっき方法及び光プローブ] 일본특허 特願2002-247395 / 物部 秀二 , 独立行政法人 科学技術振興機構
  • 유화카드뮴 CdS 로 대표되는 광전도성이 우수한 화합물 반도체로 주목 받고있다. 최근에는 이 금속 황화물 박막을 비수용성 용매욕을 사용한 전착에 의해 결합하려는 시도가...
  • 원하는 색을 내기 위한 조건 즉, pH, 온도, 전압, 전류밀도, 전해착색 성분 등에 따른 재현성 있는 데이터를 실물을 통해 얻어봄과 동시에, 알루미늄 샤시의 색상에만 한정...
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  • 본 발명은 아연을 착색하기 위한 딥 및 딥 공정용 조성물에 관한 것이며, 그에 대한 개선을 제공한다.