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무전해니켈 도금을 이용한 Flip Chip bumping 공정에 관한 연구
A study on the flip chip bumping process by electroless Ni plating

등록 2008.08.02 ⋅ 67회 인용

출처 대한용접학회, 2002년 춘계학술발표대회, 한글 4 쪽

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
안정한 니켈 범프의 형성을 위한 전처리 및 무전해니켈 도금과정에서의 공정변수에 의한 영향을 알아보고, 최적의 공정 조건을 얻고자함 조원종; 이창열; 정승부; 서창제/대한용접학회 02 춘계학술발표대회 개요집, pp.272-275, 2002
  • ENIG ^ Electroless Nickel / Immersion Gold Plating 무전해니켈 / 침지금 (ENIG) 도금은 인쇄회로 기판에 사용되는 표면처리 도금의 하나로, 무전해 니켈 도금을 얇은 침...
  • 이미노 2 -삭산구리욕에 있어서 티타늄산의 구리 석출속도 또는 침지전위에 있어서 pH, 구리이온등에 환원제의 농도 영향을 검토
  • 시안화물 및 시안화 철용액은 실제로 금 Au 도금에 사용된다. 연질금 및 경질금도금에 사용된 전통적인 도금욕은 도금중 시안화물 이온을 방출하여 시안화물 착물 [Au(C...
  • 도금욕의 실제 합금 구성과 전착 매개변수를 기준으로 12~50 % 의 음극 효율을 가진 11~13 중량 % Ni-P 의 강하고 건고한 합금을 만들었다. 초기 니켈-인 전기 도금은 호의...
  • 아민유도체, 에피할로 히드린 및 에피할로 히드린 대 글리시딜에테르 화합물의 비율이 0.5-2 mol 기준으로 0.1~5 까지인 글리시딜 에테르 화합물로 구성된 첨가제 (A) 를 함...